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产品介绍
产品介绍
SACVD 设备系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积（SACVD）设备。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上，充分实现客户对产能的需求。该设备主要应用在STI、PMD/ILD等，满足Gap-fill的需求。
产品特点
-高质量的TEOS SiO2和BPSG工艺
-可依客户选择配置1-3路液态源，实现多种先进工艺
-可与8英寸兼容互相切换（PF-200T SA）
-可搭载1-3个PM
-通过S2安全认证和F47标准检验
产品介绍
SACVD 设备系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积（SACVD）设备。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上，充分实现客户对产能的需求。该设备主要应用在STI、PMD/ILD等，满足Gap-fill的需求。
产品特点
-高质量的TEOS SiO2和BPSG工艺
-可依客户选择配置1-3路液态源，实现多种先进工艺
-可与8英寸兼容互相切换（PF-200T SA）
-可搭载1-3个PM
-通过S2安全认证和F47标准检验
